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Producing a multiple layer arrangement with a metal layer comprises applying a metal layer on one surface of a first wafer, applying an intermediate layer on the metal layer, and further processing

机译:产生具有金属层的多层布置包括在第一晶片的一个表面上施加金属层,在金属层上施加中间层以及进一步处理

摘要

Producing a multiple layer arrangement with a metal layer comprising applying a metal layer on one surface of a first wafer, applying an intermediate layer on the metal layer, applying a second wafer on the intermediate layer, and removing the first wafer so that the metal layer is exposed, is new.
机译:生产具有金属层的多层布置,包括:在第一晶片的一个表面上施加金属层;在金属层上施加中间层;在中间层上施加第二晶片;以及去除第一晶片,使得金属层暴露,是新的。

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