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Carbon layer formation, comprises precipitating a layer by introducing a carbon containing gas to a hydrogen atmosphere at high pressure and temperature

机译:碳层的形成包括通过在高压和高温下将含碳气体引入氢气气氛来沉淀层

摘要

A process for producing a carbon layer with a specific resistance less than 1mOhmcm and a hardness of 2-9Gpa, comprises precipitating the carbon layer. The substrate is in a hydrogen atmosphere with a pressure of 1-4 hectopascals and a temperature of 600-1000oC. A gas containing carbon is added to form the carbon layer.
机译:制备电阻率小于1mOhmcm且硬度为2-9Gpa的碳层的方法包括沉淀碳层。基材处于氢气氛中,压力为1-4百帕斯卡,温度为600-1000o> C。添加包含碳的气体以形成碳层。

著录项

  • 公开/公告号DE102004012044A1

    专利类型

  • 公开/公告日2005-09-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 INFINEON TECHNOLOGIES AG;

    申请/专利号DE20041012044

  • 发明设计人 STEINLESBERGER GERNOT;KREUPL FRANZ;

    申请日2004-03-11

  • 分类号C23C16/26;G12B21/08;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 22:00:49

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