要解决的问题:提供一种用于根据X射线源的运动来调整X射线束的系统和方法,所述X射线束通常关于断层合成,并且更具体而言,关于X射线源的角度分布和运动分布断层合成系统。解决方案:用于在断层合成中改善运动和角度分布轮廓的方法(500)包括指定具有第一尺寸(16)和第二尺寸的目标(12)。 X射线束(18)被投射到目标(12)的至少一部分上。 X射线束(18)具有原点(80),该原点(80)具有沿着第一尺寸(16)的位置(58)。 X射线束(18)还具有束轴(34),投影区域(28)和表示束轴(34)与至少一部分之间的角距离的角度(20、40)。目标(12)。方法(500)还包括至少部分基于沿第一尺寸(16)的原点(80)的位置(58)来改变角度(20、40)的步骤。改变角度(20、40)以基本保持投影区域(28)。
版权:(C)2007,日本特许厅&INPIT
公开/公告号JP2006263466A
专利类型
公开/公告日2006-10-05
原文格式PDF
申请/专利权人 GENERAL ELECTRIC CO GE;
申请/专利号JP20060071997
申请日2006-03-16
分类号A61B6/02;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 21:54:24