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Method for protecting write head coil during write pole notching using ion mill resistant mask formed by reactive ion etching

机译:使用通过反应性离子蚀刻形成的耐离子磨的掩模在写极开槽期间保护写头线圈的方法

摘要

A method for protecting a write head coil during write pole notching using ion mill resistant mask formed by reactive ion etching is disclosed. Ion mill shaping of the write pole is performed after depositing an ion mill-resistant material to protect the coil.
机译:公开了一种在写极凹口期间使用由反应性离子蚀刻形成的抗离子磨的掩模来保护写头线圈的方法。在沉积抗离子磨性材料以保护线圈之后,执行写入极的离子磨成形。

著录项

  • 公开/公告号US2006156537A1

    专利类型

  • 公开/公告日2006-07-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 DAVID P. DRUIST;ARON PENTEK;

    申请/专利号US20050037405

  • 发明设计人 ARON PENTEK;DAVID P. DRUIST;

    申请日2005-01-18

  • 分类号G11B5/127;H04R31/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 21:48:10

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