首页> 中国专利> 有机EL阵列曝光头等光印写头、其制作方法及使用该写头的图像形成装置

有机EL阵列曝光头等光印写头、其制作方法及使用该写头的图像形成装置

摘要

本发明涉及一种小型、工作距离长、串扰少的有机EL阵列曝光头等光印写头、其制作方法及使用其的图像形成装置,该光印写头将来自有机EL阵列等发光元件阵列的发光部2的调制光束或透过光闸元件阵列的光闸部2的调制光束投射到载像体11上,在载像体11上形成规定的图案,该光印写头是在与发光元件阵列的各个发光部2或光闸元件阵列的各个光闸部2对应的对齐位置上配置球形透镜10而成。

著录项

  • 公开/公告号CN1444105A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2003-09-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 精工爱普生株式会社;

    申请/专利号CN03119572.5

  • 发明设计人 关秀也;米洼政敏;

    申请日2003-03-11

  • 分类号G03G15/04;H05B33/12;G03G15/01;G02B3/00;

  • 代理机构北京东方亿思专利代理有限责任公司;

  • 代理人经志强

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2023-12-17 15:01:15

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-05-04

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03G15/04 授权公告日:20060705 终止日期:20150311 申请日:20030311

    专利权的终止

  • 2006-07-05

    授权

    授权

  • 2003-12-17

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2003-09-24

    公开

    公开

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