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机译:碱性溶液和制造方法,以及应用于图案形成方法,抗蚀剂膜去除方法,溶液施加方法,衬底处理方法,溶液供应方法和半导体器件制造方法的碱性溶液
公开/公告号US7097960B2
专利类型
公开/公告日2006-08-29
原文格式PDF
申请/专利权人 RIICHIRO TAKAHASHI;KEI HAYASAKI;TOMOYUKI TAKEISHI;SHINICHI ITO;
申请/专利号US20040824482
发明设计人 RIICHIRO TAKAHASHI;KEI HAYASAKI;TOMOYUKI TAKEISHI;SHINICHI ITO;
申请日2004-04-15
分类号G03F7/32;G03F7/38;G03F7/30;G03F7/40;
国家 US
入库时间 2022-08-21 21:42:28
机译: 碱性溶液和制造方法,以及应用于图案形成方法,抗蚀剂膜去除方法,溶液施加方法,衬底处理方法,溶液供应方法和半导体器件制造方法的碱性溶液
机译: 碱性溶液和制造方法,以及适用于图案形成方法,抗蚀膜去除方法,溶液应用方法,基板处理方法,溶液供应方法和半导体器件制造方法的碱性溶液