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Methods and apparatus for improving critical path analysis using gate delay

机译:利用门延迟来改善关键路径分析的方法和装置

摘要

Disclosed are novel methods and apparatus for efficiently providing critical path analysis of a design. In an embodiment, an apparatus disclosed can assist in creating a single critical path schematic which can be used to simulate both rising and falling edge delays. This saves time as only one schematic and one simulation is required instead of the two generally required.
机译:公开了用于有效地提供设计的关键路径分析的新颖方法和装置。在一个实施例中,所公开的设备可以帮助创建单个临界路径示意图,该示意图可以用于模拟上升沿和下降沿延迟。这节省了时间,因为只需要一个原理图,就只需要一个仿真,而不是通常需要的两个仿真。

著录项

  • 公开/公告号US7134110B2

    专利类型

  • 公开/公告日2006-11-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ABHAY GUPTA;

    申请/专利号US20030697603

  • 发明设计人 ABHAY GUPTA;

    申请日2003-10-30

  • 分类号G06F17/50;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 21:41:37

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