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Apparatus and method for reducing the electron-beam-induced deposition of contamination products

机译:用于减少电子束诱导的污染产物沉积的设备和方法

摘要

In a device for examining a specimen with an electron beam, in particular an SEM, TEM, or CSEM, contamination products are often result from the irradiation. To reduce these contamination products, the surface of the object irradiated with the electron beam is simultaneously illuminated with light, in particular with UV light.
机译:在用于用电子束尤其是SEM,TEM或CSEM检查样品的装置中,经常由于辐射而产生污染产物。为了减少这些污染产物,被电子束照射的物体的表面同时被光,特别是被紫外光照射。

著录项

  • 公开/公告号US7005638B2

    专利类型

  • 公开/公告日2006-02-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 BURKHARD SPILL;

    申请/专利号US20040795498

  • 发明设计人 BURKHARD SPILL;

    申请日2004-03-08

  • 分类号H01J37/20;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 21:41:23

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