要解决的问题:为了提高边缘附近的不均匀检查的准确性,在不均匀检查中检查目标物体的密度不均匀。
解决方案:在该不均匀性检查装置1中,用于检查施加到基板9上的抗蚀剂的浓度不均匀性,然后在对基板9的成像图像进行压缩之后进行低通滤波处理,然后进行高通滤波处理。由高通滤波器部分4214执行。在高通滤波器部分4214中,当高通窗口在边缘附近存在时,高通窗口减小,并且除了注目像素的区域之外的区域也减小。避免了通过滤波处理来计算像素值的对象所属于的对象。在非均质检查装置1中,通过将用于高通滤波处理的像素组限制为高通窗中的像素,即目标像素实质上所属的区域内的像素,从而能够在非均质检查装置1中对非均质检查装置的精度进行校正。边缘得到改善。
版权:(C)2006,JPO&NCIPI
公开/公告号KR20060052001A
专利类型
公开/公告日2006-05-19
原文格式PDF
申请/专利权人 DAINIPPON SCREEN MFG. CO. LTD.;
申请/专利号KR20050092942
申请日2005-10-04
分类号H01J9/42;
国家 KR
入库时间 2022-08-21 21:25:45