首页> 外国专利> COMPOSITION FOR FORMING LOW DIELECTRIC FILM COMPRISING POROUS NANOPARTICLES AND METHOD FOR PREPARING LOW DIELECTRIC THIN FILM USING THE SAME

COMPOSITION FOR FORMING LOW DIELECTRIC FILM COMPRISING POROUS NANOPARTICLES AND METHOD FOR PREPARING LOW DIELECTRIC THIN FILM USING THE SAME

机译:形成包含多孔纳米粒子的低介电薄膜的组合物以及使用该纳米薄膜制备低介电薄膜的方法

摘要

A composition for forming a low dielectric thin film, which includes a silane polymer, porous nanoparticles and an organic solvent, and a method of preparing a low dielectric thin film using the same. The low dielectric thin film prepared using the composition of the current invention may exhibit a low dielectric constant and excellent mechanical strength, and thus may be applied to conductive materials, display materials, chemical sensors, biocatalysts, insulators, packaging materials, etc.
机译:包括硅烷聚合物,多孔纳米颗粒和有机溶剂的用于形成低介电薄膜的组合物,以及使用该组合物制备低介电薄膜的方法。使用本发明的组合物制备的低介电薄膜可以表现出低介电常数和优异的机械强度,因此可以应用于导电材料,显示材料,化学传感器,生物催化剂,绝缘体,包装材料等。

著录项

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号