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flat mask manufacturing method and the use of it's micro patterning mathod fot a flat display panel

机译:平面掩模的制造方法及其微图案化方法在平面显示面板中的应用

摘要

This invention relates to a fine pattern forming method of the flat mask manufacturing method and a substrate for a flat panel display using the same. such, there is an advantage that allows the X-ray exposure , especially by increasing the processing precision of the fine pattern formed on a substrate for a flat panel display panel sikimeuro directly to a substrate of a flat display panel flat mask .
机译:本发明涉及平面掩模制造方法的精细图案形成方法和使用该方法的平板显示器用基板。这样,存在允许X射线曝光的优点,特别是通过提高形成在用于平板显示面板的基板上的精细图案的精密度,所述精细图案直接用于平板显示掩模的基板。

著录项

  • 公开/公告号KR100565488B1

    专利类型

  • 公开/公告日2006-03-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR20030045003

  • 发明设计人 최영준;박석호;한장식;오현석;

    申请日2003-07-03

  • 分类号G03F1/08;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 21:24:02

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