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Precision Rezanano processing method using a UV ultrafast laser pulses

机译:使用紫外线超快激光脉冲的精密Rezanano处理方法

摘要

Method for producing on the workpiece, a micro-structure having at least one element having a dimension of less than 200nm. I generates a pulse of UV laser light having a peak wavelength of about 380nm and less than a period of less than about fps. I focused on the (306) beam spot of the diffraction limit substantially the target area of ​​the workpiece (124), a pulse of UV laser light of these. 200nm is less than the diameter of the portion processed by one pulse of UV laser beam within the target area (304), the fluence (306) beam spot at the diffraction limit this substantially in the target area the work piece (124) I want to control as is.
机译:在工件上制造具有至少一个尺寸小于200nm的元素的微结构的方法。我生成一个峰值波长约为380nm且周期小于约fps的UV激光脉冲。我聚焦在衍射极限的(306)光束点上,基本上是工件(124)的目标区域,这些是紫外线激光的脉冲。 200nm小于目标区域(304)内一脉冲UV激光束处理的部分的直径,因此衍射(306)光束在衍射点上的限制基本上在目标区域(124)中按原样控制。

著录项

  • 公开/公告号JP2007526129A

    专利类型

  • 公开/公告日2007-09-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 松下電器産業株式会社;

    申请/专利号JP20070501868

  • 发明设计人 ミン リー;

    申请日2005-02-25

  • 分类号B23K26/36;B23K26/04;B23K26/073;B23K26/06;B81C5/00;B23K101/36;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 21:13:06

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