机译:发光基质及其制造方法,发光基质的滴滴精密试验基质,制造方法,液滴物质的滴定精度,光电装置及电子设备
公开/公告号JP2007226261A
专利类型
公开/公告日2007-09-06
原文格式PDF
申请/专利权人 SEIKO EPSON CORP;
申请/专利号JP20070101374
申请日2007-04-09
分类号G02B5/20;H05B33/10;H05B33/12;H01L51/50;H05B33/22;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 21:12:53