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Selectively reduced bi-cubic interpolation for ink-jet simulations on quadrilateral grids

机译:在四边形网格上进行喷墨模拟的选择性还原双三次插值

摘要

A selectively reduced bi-cubic interpolation on quadrilateral grids for level set re-distancing improves finite-difference-based ink-jet simulation. The “bi-cubic” nature of the interpolation helps the scheme conserve droplet mass. The “selectively reduced” logic prevents the higher-order simulation algorithm from introducing new instability factors.
机译:在四边形网格上有选择地减少双三次插值以进行水平集重新间距可改善基于有限差分的喷墨模拟。插值的“双三次”性质有助于该方案节省液滴质量。 “选择性减少”逻辑可防止高阶仿真算法引入新的不稳定性因素。

著录项

  • 公开/公告号US7254523B2

    专利类型

  • 公开/公告日2007-08-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 JIUN-DER YU;

    申请/专利号US20030729637

  • 发明设计人 JIUN-DER YU;

    申请日2003-12-05

  • 分类号G06G7/50;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 21:00:34

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