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RECESSED SPUTTER TARGET

机译:再次击中靶子

摘要

The method manufactures sputter target assemblies (30). It first includes the step of manufacturing a target insert (10). The target insert (10) has a yield strength, a diameter, a height, a planar top surface and a conical-shaped rear surface (12). Then a backing plate (20) is manufactured. The backing plate (20) has a cylindrical recess (22) that corresponds to the diameter of the target insert (10). The cylindrical recess (22) has a depth less than the height of the target insert (10) and a yield strength less than the yield strength of the target insert (10). Finally, pressing the target insert (10) into the cylindrical recess (22) to the backing plate (20) bonds the target insert (10) of the backing plate (20) to form a target assembly (30). The pressed target assembly (30) contains the target insert (10) with the conical-shaped rear surface (12).
机译:该方法制造溅射靶组件(30)。它首先包括制造靶插入物(10)的步骤。目标插入物(10)具有屈服强度,直径,高度,平坦的顶表面和圆锥形的后表面(12)。然后制造背板(20)。背板(20)具有对应于目标插入物(10)的直径的圆柱形凹槽(22)。圆柱形凹部(22)的深度小于目标插入物(10)的高度,并且屈服强度小于目标插入物(10)的屈服强度。最后,将目标插入物(10)压入圆柱形凹口(22)至背板(20),以将背衬板(20)的目标插入物(10)粘合,以形成目标组件(30)。被压的靶组件(30)包含具有圆锥形后表面(12)的靶插入物(10)。

著录项

  • 公开/公告号IL158993B

    专利类型

  • 公开/公告日2006-12-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 PRAXAIR S.T. TECHNOLOGY INC.;

    申请/专利号IL158993

  • 发明设计人

    申请日2003-11-20

  • 分类号B23K20/00;B23K20/02;C23C14/34;

  • 国家 IL

  • 入库时间 2022-08-21 20:58:45

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