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Transistor using property of metal-insulator transforming layer and methods of manufacturing for the same

机译:利用金属-绝缘体转换层的特性的晶体管及其制造方法

摘要

A transistor including a metal-insulation transition material and a method of manufacturing the same. The transistor including a metal-insulator transition material may include a substrate, a insulation layer formed on the substrate, a source region and a drain region separately formed from each other on the insulation layer, a tunneling barrier layer formed on at least one surface of the source region and the drain region, a metal-insulator transition material layer formed on the tunneling barrier layer and the insulation layer, a dielectric layer stacked on the metal-insulator transition material layer, and a gate electrode layer formed on the dielectric layer.
机译:包括金属绝缘过渡材料的晶体管及其制造方法。包括金属-绝缘体过渡材料的晶体管可以包括:基板;形成在基板上的绝缘层;在绝缘层上彼此分开形成的源极区和漏极区;形成在绝缘层的至少一个表面上的隧穿势垒层。源区和漏区,在隧穿势垒层和绝缘层上形成的金属-绝缘体过渡材料层,在金属-绝缘体过渡材料层上堆叠的介电层,以及在介电层上形成的栅电极层。

著录项

  • 公开/公告号KR100695150B1

    专利类型

  • 公开/公告日2007-03-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR20050039726

  • 发明设计人 조중래;유인경;최양규;조성일;

    申请日2005-05-12

  • 分类号H01L29/78;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 20:32:40

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