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METHOD FOR FABRICATING THREE-DIMENSIONAL MICROSTRUCTURE BY FIB-CVD AND DRAWING SYSTEM FOR THREE-DIMENSIONAL MICROSTRUCTURE

机译:FIB-CVD制造三维微结构的方法和三维微结构的拉伸系统

摘要

There are provided a fabrication method of a nanostructure by FIB-CVD which enables fabrication of a three-dimensional nanostructure, especially that without a support such as a terrace structure or a hollow structure, and a drawing system thereof. ??The three-dimensional nanostructure is fabricated by controlling a focused ion beam to determine a beam irradiation position or time based on discrete drawing data of a multilayer structure generated by calculating a cross-sectional shape divided in a vertical direction of a three-dimensional nanostructure model designed using an electronic microcomputer. IMAGE
机译:提供了一种通过FIB-CVD制造纳米结构的方法及其拉伸系统,该方法能够制造三维纳米结构,特别是没有平台(例如平台结构或中空结构)的纳米结构。三维纳米结构是通过控制聚焦的离子束,根据多层结构的离散绘制数据来确定束照射位置或时间而制成的,该多层结构的离散数据是通过计算沿三个方向的垂直方向划分的横截面形状而生成的电子微计算机设计的三维纳米结构模型。 <图像>

著录项

  • 公开/公告号KR100709514B1

    专利类型

  • 公开/公告日2007-04-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR20057016114

  • 申请日2005-08-29

  • 分类号B81C1/00;B82B3/00;C23C16/48;H01J37/317;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 20:32:22

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