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TOPOLOGY SIMULATION SYSTEM, TOPOLOGY SIMULATION METHOD, AND RECORDING MEDIUM

机译:拓扑模拟系统,拓扑模拟方法和记录介质

摘要

A matrix computing unit evaluates visual properties influenced by a positional relationship between surface elements of an element so that a shading effect and a re-deposition effect are reflected to the simulation results. A beam condition computing unit calculates beam conditions according to a position of the element on a wafer so that a difference in machined topologies caused by a positional difference on the wafer is reflected to the simulation results.
机译:矩阵计算单元评估受元素的表面元素之间的位置关系影响的视觉属性,以便将阴影效果和重新沉积效果反映到模拟结果中。光束条件计算单元根据晶片上元件的位置来计算光束条件,以使由晶片上的位置差异引起的加工拓扑的差异反映到仿真结果中。

著录项

  • 公开/公告号KR100736284B1

    专利类型

  • 公开/公告日2007-07-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR20070023710

  • 发明设计人 후루야 아쯔시;

    申请日2007-03-09

  • 分类号G06F17/50;H01L21;H01L21/302;C23F4;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 20:31:48

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