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Divergence compensator for laser micro processing station comprises two or more tilted mirror systems each comprising three mirrors arranged in stepped formation

机译:用于激光微处理站的发散补偿器包括两个或多个倾斜的反射镜系统,每个反射镜系统都包​​括三个以阶梯形式排列的反射镜

摘要

The divergence compensator comprises at least two tilted mirror systems each formed from three mirrors mounted in step formation. The laser micro processing station (1) comprises a UV laser with a wavelength of less than 200 nm, a beam forming device, a device for copying the laser beam onto the substrate being processed and a probe positioning system mounted in a processing chamber (5).The beam forming device can include a beam combiner.
机译:发散补偿器包括至少两个倾斜的反射镜系统,每个倾斜的反射镜系统由以阶梯形式安装的三个反射镜形成。激光微处理站(1)包括波长小于200 nm的UV激光器,光束形成装置,用于将激光束复制到正在处理的基板上的装置以及安装在处理室(5)中的探针定位系统光束形成装置可以包括光束组合器。

著录项

  • 公开/公告号DE202005021173U1

    专利类型

  • 公开/公告日2007-07-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 3D-MICROMAC AG;

    申请/专利号DE202005021173U1

  • 发明设计人

    申请日2005-09-12

  • 分类号B23K26/06;G02B27/10;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 20:29:03

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