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Mask ROM, mask ROM embedded EEPROM and method of fabricating the same

机译:掩膜ROM,掩膜ROM嵌入式EEPROM及其制造方法

摘要

Example embodiments are directed to a mask ROM, a mask ROM embedded EEPROM and a method of fabricating the same. The mask ROM may include a select gate pattern and a memory gate pattern disposed between a source region and a drain region at each of the on-cell and the off-cell. The on-cell may include a cell diffusion region between the select gate pattern and the memory gate pattern.
机译:示例实施例针对掩膜ROM,掩膜ROM嵌入式EEPROM及其制造方法。掩模ROM可以包括选择栅极图案和存储栅极图案,该选择栅极图案和存储栅极图案布置在每个开单元和关单元的源极区和漏极区之间。上单元可以包括在选择栅图案和存储栅图案之间的单元扩散区域。

著录项

  • 公开/公告号US2008087938A1

    专利类型

  • 公开/公告日2008-04-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 HEE-SEOG JEON;JEONG-UK HAN;

    申请/专利号US20070905629

  • 发明设计人 JEONG-UK HAN;HEE-SEOG JEON;

    申请日2007-10-03

  • 分类号H01L27/115;H01L27/112;H01L21/8247;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 20:16:32

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