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METHOD FOR DESIGNING AN INDEX PROFILE SUITABLE FOR ENCODING INTO A PHASE MASK FOR MANUFACTURING A COMPLEX OPTICAL GRATING

机译:设计适合于制造复杂光学光栅的相位掩模的索引轮廓的方法

摘要

A method for designing an index profile suitable for encoding into a phase mask for manufacturing a complex optical grating is provided. The optical grating corresponds to a target index profile defining a target spectral response. A modified index profile is set equal to the target index profile and expressed as a function of an apodization and phase profiles. The modified index profile is iteratively further modified in order to provide the index profile suitable for encoding in the phase mask. This process creates side bands outside of a spectral region of interest, while maintaining the target spectral response within the spectral region of interest.
机译:提供一种用于设计适于编码到用于制造复杂光栅的相位掩模中的折射率分布的方法。光栅对应于定义目标光谱响应的目标折射率分布。修改后的索引轮廓设置为等于目标索引轮廓,并表示为切趾和相位轮廓的函数。迭代地进一步修改修改后的索引配置文件,以提供适合于在相位掩码中编码的索引配置文件。该过程在感兴趣的光谱区域之外创建了边带,同时将目标光谱响应保持在感兴趣的光谱区域内。

著录项

  • 公开/公告号US2008090158A1

    专利类型

  • 公开/公告日2008-04-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 YVES PAINCHAUD;MICHEL MORIN;

    申请/专利号US20070932557

  • 发明设计人 YVES PAINCHAUD;MICHEL MORIN;

    申请日2007-10-31

  • 分类号G03F1/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 20:16:00

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