设计相位光栅图形的方法和制造包括它的光掩模系统的方法

摘要

一种设计相位光栅图形的方法提供用于主掩模的照度的修改形式，最佳化地用于在光刻工艺中在晶片上产生一个很多个目标图形。一旦确定了要形成在晶片上的目标图形，由至少一部分相位光栅占据的区域被分成多个子单元，初始相位值分配给每个子单元，并且随机地选择子单元之一并改变最后分配给它的相位值，重复该工艺。该工艺是采用一种迭代法，其改变分配给子单元的相位值的设置，直到它们收敛于将提供用于相位光栅的设计的一个相位值设置上为止，其中该相位光栅将产生最佳化地用于在晶片上形成目标图形的照度的修改形式。