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METHOD AND COMPOSITION FOR THE DEPOSITION OF PALLADIUM LAYERS AND PALLADIUM ALLOY LAYERS

机译:沉积钯层和钯合金层的方法和组成

摘要

An electrolytic composition and a method of using the electrolytic composition to deposit palladium or palladium alloy layers is provided which overcomes the problems known from prior art. The electrolytic composition and method of the invention comprises a palladium source, a sulfur-based acid, and a surfactant. To deposit a palladium alloy layer, the electrolytic composition further comprises a source of alloying metal ions. Moreover, the electrolytic composition according to the invention may include additional sulfur- containing amino acids for the deposition of dark palladium layers.
机译:本发明提供了一种电解质组合物和使用该电解质组合物沉积钯或钯合金层的方法,其克服了现有技术中已知的问题。本发明的电解质组合物和方法包括钯源,硫基酸和表面活性剂。为了沉积钯合金层,电解组合物还包含合金化金属离子的来源。此外,根据本发明的电解质组合物可包含用于沉积深色钯层的另外的含硫氨基酸。

著录项

  • 公开/公告号WO2008023339A2

    专利类型

  • 公开/公告日2008-02-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ENTHONE INC.;SCHAFER STEFAN;

    申请/专利号WO2007IB53356

  • 发明设计人 SCHAFER STEFAN;

    申请日2007-08-22

  • 分类号C25D3/52;C25D3/56;

  • 国家 WO

  • 入库时间 2022-08-21 20:00:54

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