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METHOD AND APPARATUS FOR CORRECTING QUILTED PATTERNS OF A ONE-HEAD QUILTING MACHINE

机译:纠正单头MACHINE缝机纹的方法和装置

摘要

The present invention relates to a method and an apparatus for correcting quilted patterns using a one-head quilting machine, which is configured to perform a first step of storing a quilting reference point in a control computer, a second step of fixing a fabric formed with patterns, a third step of locating a camera above designed patterns of the fabric, a fourth step of outputting images picked up by the camera, the quilted patterns stored in the control computer, and the quilting reference point on a monitor, a fifth step of correcting the location of the quilting reference point for the quilted patterns to match the images output on the monitor, and a sixth step of automatically carrying out a quilting operation, so that the quilted patterns matching the designed patterns of the fabric can be automatically formed.
机译:用单头缝机校正缝花样的方法和设备技术领域本发明涉及一种使用单头缝机校正correct缝花样的方法和设备,其配置为执行将to缝参考点存储在控制计算机中的第一步,第二步是将由图案,将相机放置在织物的设计图案上方的第三步,将相机拍摄的图像,存储在控制计算机中的quil缝图案以及监视器上的quil缝参考点输出的第四步,校正for缝图案的the缝基准点的位置以匹配监视器上输出的图像,并执行第六步自动执行quil缝操作,以便可以自动形成与织物的设计图案相匹配的缝图案。

著录项

  • 公开/公告号WO2008056903A1

    专利类型

  • 公开/公告日2008-05-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 LEE WON-TAE;

    申请/专利号WO2007KR05373

  • 发明设计人 LEE WON-TAE;

    申请日2007-10-30

  • 分类号D05B11/00;

  • 国家 WO

  • 入库时间 2022-08-21 19:59:24

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