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MASK LAYOUT EDITOR DEVICE AND MASK LAYOUT EDITOR PROGRAM

机译:掩码布局编辑器设备和掩码布局编辑器程序

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve convenience of a mask layout editor.;SOLUTION: A control section 21 of a mask layout editor device 1 performs conversion processing for converting original IC layout data to a prescribed format while the read original IC layout data is displayed with a display control section 23, and causes the display control section 23 to display the converted IC layout data when an operation reception section 22 receives the prescribed operation.;COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
机译:解决的问题:为了提高掩模版图编辑器的便利性;解决方案:掩模版图编辑器设备1的控制部21执行转换处理,以在显示读取的原始IC版图数据的同时将原始IC版图数据转换为规定格式。 COPYRIGHT:(C)2009,JPO&INPIT;具有显示控制部分23,并且当操作接收部分22接收到规定的操作时,使显示控制部分23显示转换后的IC布局数据。

著录项

  • 公开/公告号JP2009163674A

    专利类型

  • 公开/公告日2009-07-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 YAMAHA CORP;

    申请/专利号JP20080003107

  • 发明设计人 MIZOGUCHI ICHIRO;

    申请日2008-01-10

  • 分类号G06F17/50;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 19:45:03

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