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METHOD AND SYSTEM FOR CONTROLLING CENTER-TO-EDGE DISTRIBUTION OF SPECIES WITHIN A PLASMA

机译:控制等离子体中物种中心到边缘分布的方法和系统

摘要

A method and system for controlling the center-to-edge distribution of a species within a plasma is provided. In one embodiment, the invention provides a method for plasma processing, comprising determining plasma processing center-to-edge profile requirements of a substrate, and selecting a ratio of two inert gases to be provided to a plasma processing chamber in response to the plasma processing center to edge profile requirements.
机译:提供了一种用于控制等离子体内的物种的中心到边缘分布的方法和系统。在一个实施例中,本发明提供了一种用于等离子体处理的方法,该方法包括确定基板的等离子体处理中心到边缘轮廓的要求,以及响应于等离子体处理而选择要提供给等离子体处理室的两种惰性气体的比率。中心到边缘轮廓的要求。

著录项

  • 公开/公告号US2009218315A1

    专利类型

  • 公开/公告日2009-09-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 STEVEN SHANNON;

    申请/专利号US20080038921

  • 发明设计人 STEVEN SHANNON;

    申请日2008-02-28

  • 分类号B44C1/22;C23F1/08;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 19:35:48

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