首页> 外国专利> REVERSE REACTION SINTERING OF Si3N4/SiC COMPOSITES

REVERSE REACTION SINTERING OF Si3N4/SiC COMPOSITES

机译:Si3N4 / SiC复合材料的逆反应烧结

摘要

A method of making a composite sintered silicon nitride/silicon carbide body, including mixing a predetermined amount of silicon nitride powder with a predetermined amount of silicon carbide powder, heat-treating the resultant mixed powder at a temperature of between about 800 and 1500 degrees Celsius in a substantially nitrogen sintering atmosphere, and producing a thin film of silica around individual silicon nitride and silicon carbide grains. The thin film of silica is useful in retarding the diffusion of oxygen to the silicon nitride particles, slowing their oxidation. The pressure of the sintering atmosphere is not substantially greater than atmospheric pressure.
机译:一种制备氮化硅/碳化硅复合烧结体的方法,包括将预定量的氮化硅粉末与预定量的碳化硅粉末混合,在约800至1500摄氏度的温度下热处理所得的混合粉末。在基本上氮气的烧结气氛中,并在各个氮化硅和碳化硅晶粒周围产生二氧化硅薄膜。二氧化硅薄膜可用于延迟氧向氮化硅颗粒的扩散,减慢其氧化。烧结气氛的压力基本上不大于大气压力。

著录项

  • 公开/公告号US2008282735A1

    专利类型

  • 公开/公告日2008-11-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 JIA-LIN SUN;

    申请/专利号US20070949384

  • 发明设计人 JIA-LIN SUN;

    申请日2007-12-03

  • 分类号C03C17/02;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 19:33:48

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号