首页> 外国专利> schiefspiegliges normal incidence - kollektorsystem for light sources, particularly euv - plasmaentladungsquellen

schiefspiegliges normal incidence - kollektorsystem for light sources, particularly euv - plasmaentladungsquellen

机译:schiefspiegliges正常发病率-光源,特别是euv的kollektorsystem -plasmentladungsquellen

摘要

机译:

著录项

  • 公开/公告号AT445900T

    专利类型

  • 公开/公告日2009-10-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 CARL ZEISS SMT AG;

    申请/专利号AT20030747934T

  • 发明设计人 SINGER WOLFGANG;

    申请日2003-08-27

  • 分类号G11C11/22;G03F7/20;

  • 国家 AT

  • 入库时间 2022-08-21 19:24:15

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号