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DISPLACEMENT MEASUREMENT SYSTEM, LITHOGRAPHIC APPARATUS, DISPLACEMENT MEASUREMENT METHOD AND DEVICE MANUFACTURING METHOD

机译:位移测量系统,光刻设备,位移测量方法和设备制造方法

摘要

In particular, the displacement measurement system that measures the displacement of the substrate table in a lithographic apparatus relative to a reference frame is disclosed. It said displacement measuring system comprises a plurality of displacement sensors, and displacement sensors each associated with a target mounted on a reference frame attached to the substrate table.
机译:特别地,公开了一种位移测量系统,其测量光刻设备中的衬底台相对于参考框架的位移。所述位移测量系统包括多个位移传感器和位移传感器,每个位移传感器与安装在附接到衬底台的参考框架上的目标相关联。

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