公开/公告号CN101071276B
专利类型发明专利
公开/公告日2011-12-14
原文格式PDF
申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;
申请/专利号CN200710102990.X
申请日2007-05-08
分类号G03F7/20(20060101);H01L21/027(20060101);
代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;
代理人王波波
地址 荷兰费尔德霍芬
入库时间 2022-08-23 09:08:27
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-12-14
授权
授权
2009-05-20
实质审查的生效
实质审查的生效
2007-11-14
公开
公开
机译: 位移测量系统,光刻设备,位移测量方法和装置制造方法
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