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A process for the wet chemical thinning of si - layers in the active emitter region of a bipolar transistor

机译:双极晶体管有源发射极区硅层的湿化学减薄工艺。

摘要

A process for the wet chemical thinning it is of silicon layers in the active emitter region (7) of a bipolar transistor, characterized in that a, in addition, by means of atomic layer doping in a cover layer (3 and 9; 3 and 8) that are introduced, doping with a thickness of less than 3 nm and etch stop layer (5, 10) for wet chemical etching agent and the etch stop layer (5, 10) is removed with a wet chemical etching agent.
机译:一种湿化学减薄的方法,其是双极晶体管的有源发射极区(7)中的硅层,其特征在于,另外通过掺杂在覆盖层(3和9; 3和9)中的原子层在引入的8)中,掺杂小于3nm的厚度和用于湿法化学蚀刻剂的蚀刻停止层(5、10),并用湿法化学蚀刻剂去除蚀刻停止层(5、10)。

著录项

  • 公开/公告号DE19845790B4

    专利类型

  • 公开/公告日2008-12-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号DE1998145790

  • 发明设计人

    申请日1998-09-21

  • 分类号H01L21/331;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 19:10:04

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