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APPARATUS AND METHOD OF ANALYZING FACTORS OF DRAWING POSITION ERROR

机译:绘图位置误差因素分析的装置和方法

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To analyze the factor generated periodically out of factors that causes pattern drawing position error.;SOLUTION: An apparatus of analyzing factors of drawing position error has: an electron beam drawing apparatus; an optical pattern coordinate measuring apparatus 31 that measures a drawing position of each factor analysis pattern on a drawn material for factor analysis that is drawn by the electron beam drawing apparatus; an operation circuit 32 that calculates an error of each drawing position of the other patterns based on the drawing position of the first drawn pattern among the respective pattern drawing positions for factor analysis measured by the optical pattern coordinate measuring apparatus 31, and calculates a relation of drawing position error of each pattern to each of the other pattern drawing time required from the time point of drawing of the first-drawn pattern; a Fourier transforming circuit 33 that carries out Fourier transform to the output of the operation circuit 32; and a display apparatus 34 that displays information based on the output of the Fourier transforming circuit 33.;COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
机译:解决的问题:从引起图案描绘位置误差的因素中分析周期性产生的因素。解决方案:一种分析描绘位置误差的因素的装置包括:电子束描绘装置;以及电子束描绘装置。光学图案坐标测量设备31,其测量由电子束绘制设备绘制的,用于因子分析的绘制材料上的每个因子分析图案的绘制位置;运算电路32基于由光学图案坐标测量装置31测量出的用于因子分析的各个图案描绘位置中的第一描绘图案的描绘位置,计算其他图案的每个描绘位置的误差,并计算以下关系:从第一次绘制图案的绘制时间点开始,每个图案的绘制位置误差与其他每个图案绘制时间之间的误差;傅立叶变换电路33,对运算电路32的输出进行傅立叶变换。显示器;以及显示装置34,其基于傅立叶变换电路33的输出来显示信息。COPYRIGHT:(C)2011,JPO&INPIT

著录项

  • 公开/公告号JP2010225729A

    专利类型

  • 公开/公告日2010-10-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 JEOL LTD;

    申请/专利号JP20090069593

  • 发明设计人 HAYASHI TAKAO;KOBAYASHI NORIYUKI;

    申请日2009-03-23

  • 分类号H01L21/027;G03F7/20;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 19:02:17

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