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Being the exposure device which irradiates the spot of the desire which is on

机译:作为一种照射装置,可以照亮所希望的部位

摘要

An exposing apparatus for irradiating desired spots on a substrate to be exposed relatively moving with respect to two or more light sources arranged along the direction of the relative movement to form a desired exposure pattern using the light sources comprises a control means for controlling the turning-on of only specific light sources out of the two or more light sources at a specific timing.
机译:相对于沿相对运动方向布置的两个或多个光源相对运动以在要曝光的基板上照射所需光斑的曝光设备,使用该光源包括控制装置,该控制装置用于控制转向在特定的时间,仅在两个或多个光源中只有特定的光源打开。

著录项

  • 公开/公告号JP4480339B2

    专利类型

  • 公开/公告日2010-06-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 新光電気工業株式会社;

    申请/专利号JP20030100377

  • 发明设计人 赤川 雅俊;関川 和成;

    申请日2003-04-03

  • 分类号G03F7/20;H01L21/027;B41J2/01;G02B26/10;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 19:01:18

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