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METHODS OF MAKING THIN FILM TRANSISTORS COMPRISING ZINC-OXIDE-BASED SEMICONDUCTOR MATERIALS

机译:制备包含氧化锌基半导体材料的薄膜晶体管的方法

摘要

A thin film transistor comprises a zinc-oxide-containing semiconductor material. Such transistors can further comprise spaced apart first and second contact means or electrodes in contact with said material. Further disclosed is a process for fabricating a thin film transistor device, wherein the substrate temperature is no more than 300° C. during fabrication.
机译:薄膜晶体管包括含氧化锌的半导体材料。这样的晶体管可以进一步包括与所述材料接触的间隔开的第一和第二接触装置或电极。进一步公开了一种用于制造薄膜晶体管器件的方法,其中,在制造过程中,衬底温度不超过300℃。

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