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Edit structure that allows the input of a logic gate to be changed by modifying any one of the metal or via masks used to form the metal interconnect structure

机译:编辑结构,允许通过修改金属中的任何一种或用于形成金属互连结构的掩模来更改逻辑门的输入

摘要

An edit structure is disclosed that allows the input of a logic gate to be changed by modifying any one of the metal and via masks that are used to form the metal interconnect structure. As a result, a first permanent logic state provided by a tie-in circuit can be changed to a second permanent logic state by modifying any one of the metal and via masks that are used to form the metal interconnect structure.
机译:公开了一种编辑结构,其允许通过修改用于形成金属互连结构的金属和通孔掩模中的任何一种来改变逻辑门的输入。结果,通过修改用于形成金属互连结构的金属和通孔掩模中的任何一个,可以将由绑定电路提供的第一永久逻辑状态改变为第二永久逻辑状态。

著录项

  • 公开/公告号US7719114B2

    专利类型

  • 公开/公告日2010-05-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 RICHARD J. DOYON JR.;

    申请/专利号US20070974999

  • 发明设计人 RICHARD J. DOYON JR.;

    申请日2007-10-17

  • 分类号H01L23/48;H01L23/52;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 18:50:59

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