首页> 外国专利> Halftone mask and method for making pattern substrate using the halftone mask

Halftone mask and method for making pattern substrate using the halftone mask

机译:半色调掩模以及使用该半色调掩模制造图案基板的方法

摘要

A halftone mask includes translucent film patterns for forming a middle gradation area and light blocking film patterns disposed to an entire periphery of the translucent film patterns.
机译:半色调掩模包括用于形成中间渐变区域的半透明膜图案和设置在半透明膜图案的整个外围的遮光膜图案。

著录项

  • 公开/公告号US7803503B2

    专利类型

  • 公开/公告日2010-09-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 KAZUSHI YAMAYOSHI;

    申请/专利号US20070835676

  • 发明设计人 KAZUSHI YAMAYOSHI;

    申请日2007-08-08

  • 分类号G03F1/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 18:50:06

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号