首页> 外国专利> Anti-reflective polymer, anti-reflective composition containing the same, and method for forming pattern using the same

Anti-reflective polymer, anti-reflective composition containing the same, and method for forming pattern using the same

机译：抗反射聚合物，包含该抗反射聚合物的抗反射组合物以及使用该抗反射聚合物形成图案的方法

页面导航

摘要
著录项
相似文献

摘要

A polymer for crosslinking an anti-reflective film has a high refractive index. An anti-reflective composition containing the polymer for crosslinking is useful in an immersion lithography process using ArF (193 nm) of a semiconductor device manufacturing process.

机译：用于交联抗反射膜的聚合物具有高折射率。包含用于交联的聚合物的抗反射组合物可用于使用半导体器件制造工艺的ArF（193nm）的浸没式光刻工艺中。

著录项

公开/公告号US7771920B2

专利类型
公开/公告日2010-08-10

原文格式PDF
申请/专利权人 JAE CHANG JUNG;
展开▼

申请/专利号US20080133511
发明设计人 JAE CHANG JUNG;
展开▼

申请日2008-06-05
分类号G03F7/11;G03F7/38;C08F16/38;C08F16/30;
国家 US
入库时间 2022-08-21 18:48:34

相似文献

专利
外文文献
中文文献