首页> 外国专利> METHOD OF TREATING A SURFACE OF AT LEAST ONE PART BY MEANS OF INDIVIDUAL SOURCES OF AN ELECTRON CYCLOTRON RESONANCE PLASMA.

METHOD OF TREATING A SURFACE OF AT LEAST ONE PART BY MEANS OF INDIVIDUAL SOURCES OF AN ELECTRON CYCLOTRON RESONANCE PLASMA.

机译:用电子回旋共振等离子体的个体来源对至少一个零件的表面进行处理的方法。

摘要

This method consists in subjecting the part or parts (1) to at least one rotational movement with respect to at least one fixed linear row of individual sources (2), said linear row or rows of individual sources (2) being arranged so as to be parallel to the rotation axis or axes of the part or parts.
机译:该方法包括使一个或多个零件(1)相对于单个源(2)的至少一个固定的线性行进行至少一个旋转运动,所述线性行或单个源(2)的行被布置为使得平行于一个或多个零件的旋转轴。

著录项

  • 公开/公告号MX2010003596A

    专利类型

  • 公开/公告日2010-04-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 H.E.F.;

    申请/专利号MX20100003596

  • 申请日2008-10-09

  • 分类号H01J37/32;H05H1/46;

  • 国家 MX

  • 入库时间 2022-08-21 18:45:39

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号