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SEMICONDUCTOR MEMORY CELL AND MEMORY ARRAY USING A BREAKDOWN PHENOMENA IN AN ULTRA-THIN DIELECTRIC

机译:在超薄介电中使用击穿现象的半导体记忆细胞和记忆阵列

摘要

A semiconductor memory cell (300) having a data storage element (115) constructed around an ultra-thin dielectric (312) is used to store information by stressing the ultra-thin dielectric (312) into breakdown (soft or hard breakdown) to set the leakage current level of the memory cell (300). The memory cell (300) is read by sensing the current drawn by the cell (300). A suitable ultra-thin dielectric (312) is high quality gate oxide of about 50 Å thickness or less.
机译:具有围绕超薄电介质(312)构造的数据存储元件(115)的半导体存储单元(300)用于通过将超薄电介质(312)施加应力以击穿(软击穿或硬击穿)以进行设置来存储信息。存储单元(300)的泄漏电流水平。通过感测存储单元(300)汲取的电流来读取存储单元(300)。合适的超薄电介质(312)是厚度约为50或更小的高质量栅氧化层。

著录项

  • 公开/公告号EP1436815B1

    专利类型

  • 公开/公告日2010-03-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 KILOPASS TECHNOLOGY INC;

    申请/专利号EP20020759714

  • 发明设计人 PENG JACK ZEZHONG;

    申请日2002-09-17

  • 分类号G11C17/16;H01L23/525;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-21 18:39:57

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