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ANALYSIS METHOD OF CONTAMINATION INGREDIENT IN THE BULK OF WAFER

机译:硅片中杂质含量的分析方法

摘要

PURPOSE: a kind of metal contamination level of the chip in analysis contamination meter body area is provided directly to cut the chip by analysis component to assessing each bulk region. ;CONSTITUTION: there is chip the semiconductor devices completed to have prepared (S100). Sample of the preparation for analysis passes through the cutting chip (S110). Body regions are examined the sample of cut surface for analyzing (S130). Sample is cut in every piece of area of block analysis for analyzing (S140). ;The 2010 of copyright KIPO submissions
机译:目的:在分析污染仪的主体区域中直接提供一种芯片的金属污染水平,以通过分析组件切割芯片以评估每个体积区域。 ;组成:半导体器件已经准备就绪的芯片(S100)。用于分析的准备样品通过切割芯片(S110)。检查身体区域的切割表面样本以进行分析(S130)。在块分析的每个区域中切出样品以进行分析(S140)。 ; 2010年版权KIPO提交文件

著录项

  • 公开/公告号KR20100042791A

    专利类型

  • 公开/公告日2010-04-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SILTRON INC.;

    申请/专利号KR20080101937

  • 发明设计人 KIM JAE HONG;

    申请日2008-10-17

  • 分类号H01L21/66;H01L21/02;H01L21/00;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 18:32:53

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