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METHOD AND A SYSTEM FOR COLLECTING DATA IN A SEMICONDUCTOR MANUFACTURING FACILITY, CAPABLE OF RAPIDLY SENSING A PROBLEM BY REPORTING THE DATA AT EACH STEP

机译:用于在半导体制造工厂中收集数据的方法和系统,该方法和系统能够通过在每个步骤报告数据来快速感知问题

摘要

PURPOSE: A method and a system for collecting data in a semiconductor manufacturing facility is provided to minimize damage to a wafer by rapidly recognizing the problem with a work result by the reported data after the process is completed.;CONSTITUTION: A wafer is inputted to a process unit(S20). A process is performed(S30). The process is completed(S40). The process unit collects data about the wafer for each process unit and reports the data to a host server(S50). Whether the wafer is inputted to the following unit is checked(S60). The wafer is discharged(S70).;COPYRIGHT KIPO 2010
机译:目的:提供一种用于在半导体制造设施中收集数据的方法和系统,以通过在完成处理后通过报告的数据快速识别工作结果问题来最大程度地减少对晶片的损害。处理单元(S20)。进行处理(S30)。处理完成(S40)。处理单元为每个处理单元收集关于晶片的数据,并将该数据报告给主机服务器(S50)。检查晶片是否被输入到以下单元(S60)。晶片被排出(S70)。; COPYRIGHT KIPO 2010

著录项

  • 公开/公告号KR20100046791A

    专利类型

  • 公开/公告日2010-05-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SEMES CO. LTD.;

    申请/专利号KR20080105805

  • 发明设计人 JUNG JI KUK;LEE SANG JU;

    申请日2008-10-28

  • 分类号H01L21/02;H01L21/00;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 18:32:50

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