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SEMICONDUCTOR FIELD EFFECT TRANSISTOR AND A METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, CAPABLE OF FORMING A GATE DIELECTRIC FOR A GERMANIUM TRANSISTOR

机译:半导体场效应晶体管及其制造方法,能够形成锗晶体管的栅极介电层

摘要

PURPOSE: A semiconductor field effect transistor and a method for manufacturing the same are provided to improve the reliability and the performance of elements by doping a stabilization metal to stabilize a semiconductor oxide.;CONSTITUTION: A semiconductor oxide layer is formed on a substrate(10). A metal oxide layer is formed on the semiconductor oxide layer. The semiconductor oxide layer and the metal oxide layer are converted into a first dielectric layer(23). A second dielectric layer(24) is formed on the first dielectric layer. A first gate electrode layer(25) is formed on the second dielectric layer. A second gate electrode layer(26) is formed on the first gate electrode layer.;COPYRIGHT KIPO 2011
机译:目的:提供一种半导体场效应晶体管及其制造方法,通过掺杂稳定金属来稳定半导体氧化物,以提高元件的可靠性和性能。;组成:在衬底上形成半导体氧化物层(10) )。在半导体氧化物层上形成金属氧化物层。半导体氧化物层和金属氧化物层被转换成第一介电层(23)。在第一介电层上形成第二介电层(24)。在第二介电层上形成第一栅电极层(25)。在第一栅电极层上形成第二栅电极层(26)。; COPYRIGHT KIPO 2011

著录项

  • 公开/公告号KR20100105462A

    专利类型

  • 公开/公告日2010-09-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO. LTD.;

    申请/专利号KR20100023676

  • 发明设计人 LIN JING CHENG;

    申请日2010-03-17

  • 分类号H01L21/335;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 18:31:49

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