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ELECTRON BEAM HOLOGRAM FORMING DEVICE AND ELECTRON BEAM HOLOGRAM FORMING METHOD

机译:电子束全像形成装置及电子束全像形成方法

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electron beam hologram forming device capable of coping with a screening phenomenon and an electron beam hologram forming method.;SOLUTION: The electron beam hologram forming device is provided with a first electrode and a second electrode for impressing voltage on a sample. In the electron beam hologram forming method, electron beams are irradiated on the sample in a state the voltage is impressed on the sample to form the electron beam hologram.;COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
机译:解决的问题:提供一种能够应对遮蔽现象的电子束全息图形成装置及电子束全息图形成方法。在一个样本上。在电子束全息图形成方法中,以在样品上施加电压以形成电子束全息图的状态将电子束照射在样品上。; COPYRIGHT:(C)2011,JPO&INPIT

著录项

  • 公开/公告号JP2011154793A

    专利类型

  • 公开/公告日2011-08-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 NEC CORP;

    申请/专利号JP20100013864

  • 发明设计人 IGARASHI NOBUYUKI;

    申请日2010-01-26

  • 分类号H01J37/26;H01J37/22;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 18:25:37

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