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BASE MATERIAL FOR MICROLENS ARRAY, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, FORMING DIE FOR BASE MATERIAL FOR MICROLENS ARRAY, AND MICROLENS ARRAY

机译:微阵列的基础材料,相同制造方法,微阵列的基础材料成型模具和微阵列

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a base material for a microlens array providing a light shielding part at a favorable yield and efficiently without uneven application and an error in application to a lens effective area while eliminating pre-treatment such as masking in providing the light shielding part in the base material for the microlens array.;SOLUTION: In the base material for the microlens array including a plurality of lenses, a light shielding part formation assisting groove for guiding a liquid light shielding part forming agent between the lenses is provided in the light shielding part forming part.;COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
机译:解决的问题:提供一种微透镜阵列的基材,该微透镜阵列的基材以良好的成品率且有效地提供遮光部,而不会在施加到透镜有效区域上时产生不均匀的施加和施加误差,同时消除了诸如提供光的掩模之类的预处理。解决方案:在包括多个透镜的微透镜阵列的基材中,在透镜之间设置有用于引导液体遮光部形成剂的遮光部形成辅助槽。遮光部分形成部分。;版权所有:(C)2011,日本特许厅&INPIT

著录项

  • 公开/公告号JP2011059185A

    专利类型

  • 公开/公告日2011-03-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 RICOH CO LTD;

    申请/专利号JP20090205968

  • 发明设计人 CHO SUSUMU;

    申请日2009-09-07

  • 分类号G02B3/00;B29C33/42;B29C39/02;B29L11/00;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 18:23:03

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