要解决的问题:通过指定工业过程系统中的各个设备和组件,以可用的过程控制形式指定畸变的根本原因。解决方案:存储器存储与工业过程中的可用控制形式相对应的多个过程模型112。每个过程模型都包括一个规则库,该规则库用于根据过程信号确定像差的根本原因。根本原因分析块112从存储器中读取特定的过程模型,使用功能,将过程信号定义为输入,将过程模型112中包括的规则库和过程信号定义为自变量,以及像差作为因变量,并确定过程模型像差的根本原因。
版权:(C)2009,日本特许厅&INPIT
公开/公告号JP4635167B2
专利类型
公开/公告日2011-02-23
原文格式PDF
申请/专利权人
申请/专利号JP20030535005
发明设计人
申请日2002-09-25
分类号G05B23/02;G05B9/02;G05B13/02;G05B21/02;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 18:19:18