要解决的问题:通过提高近场光产生元件的光学效率,来增强各自使用近场光产生元件的近场光记录设备和近场光显微镜的性能。
解决方案:近场光产生元件具有光学透明的三角锥402和覆盖该三角锥402的遮光膜403,其中,通过去除放置在半导体晶片的一部分上的遮光膜403来形成锥曝光部分404。从曝光部分404的上方形成包括三角形金字塔402的顶点和金属膜405的斜面,从而使三角形金字塔402和金属膜405经由金字塔曝光部分404彼此接触。 :(C)2009,日本特许厅&INPIT
公开/公告号JP4593666B2
专利类型
公开/公告日2010-12-08
原文格式PDF
申请/专利权人 セイコーインスツル株式会社;
申请/专利号JP20080329442
申请日2008-12-25
分类号G11B7/135;G02B3/00;G02B21/00;G02B5/00;G02B6/42;G01Q80/00;G01Q60/22;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 18:16:53