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System and method for using first-principles simulation to characterize a semiconductor manufacturing process

机译:使用第一原理模拟来表征半导体制造过程的系统和方法

摘要

A method, system and computer readable medium for facilitating a process performed by a semiconductor processing tool. The method includes inputting data relating to a process performed by the semiconductor processing tool, and inputting a first principles physical model relating to the semiconductor processing tool. First principles simulation is then performed using the input data and the physical model to provide a simulation result for the process performed by the semiconductor processing tool, and the simulation result is used as part of a data set that characterizes the process performed by the semiconductor processing tool.
机译:一种用于促进由半导体处理工具执行的处理的方法,系统和计算机可读介质。该方法包括输入与由半导体处理工具执行的处理有关的数据,以及输入与半导体处理工具有关的第一原理物理模型。然后,使用输入数据和物理模型执行第一原理模拟,以提供由半导体处理工具执行的处理的模拟结果,并且该模拟结果用作表征半导体处理执行的处理的数据集的一部分工具。

著录项

  • 公开/公告号US8014991B2

    专利类型

  • 公开/公告日2011-09-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ANDREJ S. MITROVIC;ERIC J. STRANG;

    申请/专利号US20030673501

  • 发明设计人 ANDREJ S. MITROVIC;ERIC J. STRANG;

    申请日2003-09-30

  • 分类号G06F17/50;G06F19;G06G7/48;H01L21;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 18:09:03

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