首页> 外国专利> Method for incorporating pattern dependent effects in circuit simulations

Method for incorporating pattern dependent effects in circuit simulations

机译:在电路仿真中纳入模式相关效应的方法

摘要

Methods, software, and apparatus for providing a netlist for simulation that includes one or more parameters that are determined by one or more pattern dependent effects. One particular embodiment of the present invention receives a layout of a circuit including one or more MOSFET transistors. For one or more of the MOSFET transistors, spacing between transistors is measured using the received layout and a pattern dependent parameter is determined. This parameter modifies the length of the gate that is used in simulation. In other embodiments, other pattern dependent effects can be used to determine the values of one or more parameters. These parameters may be used to modify gate length, emitter size, resistor width, or other device characteristics.
机译:用于提供用于仿真的网表的方法,软件和装置,该网表包括由一个或多个与模式相关的效果确定的一个或多个参数。本发明的一个特定实施例接收包括一个或多个MOSFET晶体管的电路的布局。对于一个或多个MOSFET晶体管,使用接收的布局测量晶体管之间的间距,并确定与图案有关的参数。此参数修改模拟中使用的门的长度。在其他实施例中,可以使用其他与模式有关的效果来确定一个或多个参数的值。这些参数可用于修改栅极长度,发射极尺寸,电阻器宽度或其他器件特性。

著录项

  • 公开/公告号US7917883B2

    专利类型

  • 公开/公告日2011-03-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 JEFFREY WATT;

    申请/专利号US20050043609

  • 发明设计人 JEFFREY WATT;

    申请日2005-01-24

  • 分类号G06F17/50;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 18:07:58

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号