首页> 外国专利> Thin film transistor, integrated circuit, liquid crystal display, method of producing thin film transistor, and method of exposure using attenuated type mask

Thin film transistor, integrated circuit, liquid crystal display, method of producing thin film transistor, and method of exposure using attenuated type mask

机译:薄膜晶体管,集成电路,液晶显示器,薄膜晶体管的制造方法以及使用衰减型掩模的曝光方法

摘要

A method of producing a thin film transistor comprises irradiating a resist on a glass base plate with a ray from a light source through a mask and, thereafter, developing the resist to form contact holes, using an i-ray as the ray.
机译:一种薄膜晶体管的制造方法,其特征在于,将来自光源的光通过掩模通过掩模向玻璃基板上的抗蚀剂照射,然后,使用i射线作为该射线使抗蚀剂显影而形成接触孔。

著录项

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号