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Microradiation source, which is prepared by focussing ion implantation of a radioactive isotope on a semiconductor material using superconducting magnets

机译:通过使用超导磁体将放射性同位素的离子注入聚焦在半导体材料上而制备的微辐射源

摘要

The microradiation source, which is prepared by focussing ion implantation of a radioactive isotope on a semiconductor material using superconducting magnets and having a radius smaller than 20 microns, is claimed. Independent claims are included for: (1) a method for producing a microsystem; (2) a housing for a micro system; and (3) a micro system.
机译:要求保护的微辐射源是通过使用超导磁体将放射性同位素的离子注入聚焦在半导体材料上而制备的,其半径小于20微米。包括以下独立权利要求:(1)一种生产微系统的方法; (2)微型系统的外壳; (3)微型系统。

著录项

  • 公开/公告号DE102010008322A1

    专利类型

  • 公开/公告日2011-08-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 BURCHARD BERND;

    申请/专利号DE20101008322

  • 发明设计人 BURCHARD BERND;

    申请日2010-02-17

  • 分类号G21G4/00;B81B1/00;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 17:47:24

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